L’Atomic Layer Deposition (ALD) est un champ scientifique vaste, couvrant des domaines aussi divers que la chimie moléculaire, la chimie de surface, les matériaux, les procédés, et les nombreuses applications où elle est utilisée. La communauté académique en particulier s’intéresse aux questions fondamentales de croissance des matériaux et utilise pour cela de nombreux outils (caractérisations avancées, modélisation, …). Ceci permet la fabrication de matériaux fonctionnels performants qui sont intégrés dans des dispositifs pour applications diverses, dont de nombreuses sont liés aux ODD.

Cette école thématique sur l’ALD a pour but de former les acteurs français académiques et industriels et promouvoir les développements de cette technique.

Ce procédé de dépôt connaît des évolutions techniques et scientifiques à un rythme très rapide qui se répandent actuellement dans de nombreux secteurs d’activités, en particulier dans les domaine de l’énergie (batteries, production de H₂, photocatalyse, piles à combustibles, photovoltaïque), de la catalyse, de l’environnement (dépollution de l’air et de l’eau) et des applications biomédicales.