Ce workshop dédié à la technologie ALD (Dépôt par Couche Atomique – Atomic Layer Deposition) fédère une communauté française (industrielle et académique). Le principal objectif est d’être un espace privilégié à la fois d’échanges et partages de savoirs et savoir-faire, de veille scientifique et de réflexion collective sur les perspectives de la technique.

Organisé sur 3 jours, ce colloque comprend des sessions de formation pour les étudiants niveau Master locaux, des tutoriaux, des conférences invitées, des présentations de chercheur.e.s juniors (doctorant.e.s, post-doctorant.e.s) orales et par affiches, et des tables rondes.

Tous les aspects liés à la technique ALD sont abordés et en particulier ceux liés aux nombreuses applications dans le domaine de l’énergie (batteries, production H2, photocatalyse, piles à combustibles, photovoltaïque), de la catalyse, de l’environnement (dépollution de l’air et de l’eau) et des applications biomédicales.

L’ALD est un champ scientifique vaste, couvrant des domaines aussi divers que la chimie moléculaire, la chimie de surface, les matériaux, les procédés, et les nombreuses applications où elle est utilisée. La communauté académique en particulier s’intéresse aux questions fondamentales de croissance des matériaux et utilise pour cela de nombreux outils(caractérisations avancées, modélisation, …) Ceci permet la fabrication de matériaux fonctionnels performants qui sont intégrés dans des dispositifs pour applications diverses, dont de nombreuses sont liés aux ODD.

Les applications où l’ALD est utilisée sont souvent déjà liées à des ODD.

L’ALD est d’ores et déjà impliquée dans l’élaboration de nombreux dispositifs énergétiques (stockage, production, conversion) ou de dépollution, que ce soit à l’échelle du laboratoire ou industrielle.
Elle est amenée à prendre une place toujours plus prépondérante.